在光科教技術上，萬興邦取得了突破。

光刻教室光刻工藝中的關鍵材料之一 ，是必須條件，不可缺少的。

在加工過程中，光刻膠用於定義晶片加工過程中的電路和器件圖案，是轉移圖案的關鍵媒介。 加工過程中。

光刻膠先塗在矽片表面，透過曝光和顯影的過程，使光刻膠中的藥劑發生化學反應。 形成可溶解區域和不可溶解區域。

可溶解區域，就可以雕刻。

不可溶解區域，在雕刻的過程中不受影響。

可溶解區域和不可溶解區域交替，就形成了晶片的電路，這才是光刻過程中的關鍵。 光刻膠的好壞，直接影響晶片質量。

高品質的光刻膠，可溶解區域非常容易溶解，不可溶解區域紋絲不動，兩者交界區非常明顯。

不互融。 不模糊。

才能加工更小的電路尺寸，實現更高的圖案解析度。

高品質的光刻膠，需要適當的黏和力，以便塗抹在矽片表面上。 黏和力不能太小。

否則加工過程中容易脫落。 也不能太大。

否則加工完成之後，怎麼去除就是一大問題了。

光刻機加工的晶片電路板是微米級別、奈米級別的，相對脆弱，光刻膠黏和力泰達會造成破壞。 還要有光學透明性。

光刻機就是用光進行雕刻，要是不透光，或者透光不好，還叫什麼光刻機? 此外。

還要有化學穩定性，因為光刻機加工過程中，肯定要使用到一些化學藥劑。 沒有化學穩定性。

加入其他化學藥劑，光刻膠變質，晶片就廢了。

再就是一定的機械強度，不能有點風吹草動就碎了。 目前。

全世界，唯一能生產光刻膠的只有龍國。

“唉，想想前世，光刻膠技術，掌握在腳盆國手裡。”

“143腳盆國出口的光刻膠，巔峰時期，佔據了全世界的百分之四十，在一定程度上甚至影響鷹醬。” 萬興邦嘆了一口氣。

他穿越重生到六十年代，有前世發展的記憶，絕對不會讓腳盆國得意。 這一世。

光刻機全套技術，包括光刻膠技術，都是龍國的。

光刻膠也分為兩個版本， 一個版本是出口的， 一個版本是自用的，出口的當然也是閹割板。

效能比較差一些。 價格反而更高。

出口的光刻膠，主要原材料是天然物質，比如橡膠乳膠等等。 天然未加工的食品，比加工食品好。

天然未加工的光刻膠就是另外一碼事兒，解析度低，需要較長曝光時間，限制了光刻機技術發展。 自用的光刻膠，使用的材料是光敏聚合物。

解析度高。

曝光時間短。

同樣的光刻機，使用兩種光刻膠製造出來的晶片，不能說一個天上一個地下，但也是兩種產物。 質量不可同日而語。

“唉，光敏聚合物製作的光刻膠，其實效能也不太好，缺點也不少，只是目前沒有更好的。” 萬興邦對光敏聚合物也不太滿意。

光敏聚合物也有缺點

光敏聚合物對萬興邦而言，就是一種過渡產品，迫不得已的情況下矮子裡選大個，先頂上! 等他找到更好的材料，製造出更好的光刻膠，就淘汰光敏聚合物。

光明聚合物的缺點也很多。

缺點一是對能量比較敏感。。

在光刻機工作過程中，必須嚴格控制光源的能量，也就是光長度，以保證光刻膠的感光度。 對紫外光和深紫外光尤其敏感。

缺點二是對化學溶劑耐受性較弱。

在光刻機加工的過程中，有些生產步驟需要使用化學溶劑，清除未暴露部分殘留的光刻膠。 這一步非常關鍵。

該清除的部分，要是清理不乾淨，再繼續光刻的時候，就容易造成漏刻，就會導致晶片報廢。 不該清除的部分，是被清除了，或者膨脹了，就會導致不該雕刻的部分雕刻了，或者變形。

同樣會報廢晶片。 因此。

使用光敏聚合物製作的光刻膠，對化學溶劑要求也非常高，各種物質的配比必須嚴格按照要求。 只要有一點不對， 一批晶片就報廢了。

缺點三是機械效能差，包括機械強度和耐磨性。

有一些晶片加工的時候，中間的加工環節，有可能會施加一定程度的物理壓力，或簡單打磨。 這種型別的晶片，就不適合使用聚合