的速度很慢，幻境模擬程式裡面給出的結果也很快。

僅僅兩天多的時間，科研所光刻機設計小組所設計出來的7奈米光刻機的良品率從開始程式模擬的不到40%的良品率，極具提升到了90%！

90%的良品率在現實中還有點低，像是一些代工企業的良品率至少在95%左右，甚至經過人員熟練，裝置調整等方面可以達到98%。

但是90%的良品率，尤其是國內一直都處於國際落後技術的晶片製造，已經極具生產價值了！

之所以速度如此恐怖，還是因為在這裡，他們發現任何問題，只要提出解決方案，光刻機生產線的調整不過就是輸入幾個資料，分分鐘就可以完成。

但是現實中，你至少要重新生產相關的零部件才行，這耽誤的時間豈止是一點半點，而這裡只需要更改資料，模擬的零配件瞬間就可以形成。

90%的良品率，光刻機設計小組已經不準備繼續進行設計了，主要是他們沒有使用過這個程式，不知道這程式到底是否靠譜，但是這個程式傳遞回來的所有資料，在他們看來都是非常精準的。

而他們之所以停下來的原因就只有一個，他們要按照這種最新改進，在現實中生產一臺，然後在現實中實際測試！

相對於光刻機設計小組的進度，晶片設計小組這邊的進度自然是慢一點，畢竟晶片設計是從無到有的東西，而光刻機這東西更多的像是更新換代。

(本章完)